nieuwsbjtp

Verbetering van het plateerproces van hard chroom

Op basis van recificatietechnologie zijn verschillende strategieën en technieken betrokken:

Gebruikmakend van geavanceerde rectificatiesystemen met nauwkeurige stroomcontrolemogelijkheden om een ​​nauwkeurige en stabiele stroomoverdracht tijdens het galvaniseringsproces te garanderen.

Het implementeren van feedbackcontrolemechanismen om de galvaniseerstroom continu te bewaken en aan te passen op basis van vereiste parameters zoals onderdeelgeometrie, laagdikte en samenstelling van de galvaniseeroplossing.

Onderzoek naar golfvormcontroletechnieken, zoals pulsplating of periodieke stroomomkering, om de coatingprestaties te verbeteren, galvaniseringsdefecten te verminderen en de hechting te verbeteren.

Pulse-platingtechnologie:

Implementatie van pulsplatingmethoden waarbij intermitterende stroom wordt toegepast in plaats van continue stroom.

Het optimaliseren van pulsparameters zoals pulsfrequentie, werkcyclus en amplitude om een ​​uniforme afzetting te bereiken, de mogelijkheden voor diep plateren te verbeteren en waterstofverbrossing te minimaliseren.

Het gebruik van pulsomkeertechnieken om de vorming van knobbeltjes te verminderen, de oppervlakteruwheid te verbeteren en de microstructuur van hardchroomcoatings te verbeteren.

Integratie van gelijkrichters met geavanceerde automatiserings- en besturingssystemen voor realtime monitoring, data-analyse en procesoptimalisatie.

Gebruikmakend van sensoren en feedbackmechanismen om belangrijke procesparameters zoals temperatuur, pH, stroomdichtheid en spanning te meten, waardoor automatische aanpassingen van de galvaniseringsomstandigheden mogelijk worden.

Implementatie van intelligente algoritmen of machine learning-technieken om procesparameters te optimaliseren, coatingkwaliteit te voorspellen en defecten te minimaliseren.


Posttijd: 07-sep-2023